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一期一品 | 精密紫外应用新选择!这款 UV-LED 光源模组,功率、稳定性双在线

一期一品 | 精密紫外应用新选择!这款 UV-LED 光源模组,功率、稳定性双在线

2025-12-17 17:46

在精密制造、科研实验等领域,光源的性能直接影响着效率与精度。传统光源存在功率不足、稳定性差、适配场景单一等问题,难以满足当下多元化的精密紫外应用需求。现在,镭创高科UV-LED照明产品系列 —— 涵盖UV-LED光纤耦合光源与空间耦合LED&LD混合照明系统,从波长选择到功率输出,从智能控制到场景适配,全方位契合工业与科研的核心需求,为精密紫外应用提供全新解决方案。


UV-LED光纤耦合光源


本产品系列涵盖高性能UV-LED照明模组及光纤耦合光源模组,专为各类精密紫外应用设计。其中,UV-LED光纤耦合光源提供多种中心波长(365nm、385nm、405nm、435nm),支持高达50W的光纤输出功率,具备卓越的功率稳定性与超长使用寿命,各波长可独立控制,适用于紫外固化、晶圆检测、光刻等工业场景。


同时,LED&LD混合照明系统将紫外LED与激光优势结合,可提供矩形均匀光斑、高功率输出与完善的智能保护功能,满足包括光刻、DMD照明、增材制造等高要求的应用领域。

空间耦合LED&LD照明模组


全线产品具有结构紧凑、控制灵活、可靠性高等特点,是工业与科研紫外光应用的理想选择。



UV-LED光纤耦合光源




输出波长包括 365 / 385 / 405 / 435nm


功率高,光纤输出功率可达50W


功率稳定,寿命长


不同波长LED可以独立控制


应用案例

机器视觉



UV-LED光源通过光纤输出,并结合整形镜头,实现均匀光斑的照明,针对特殊材料进行补光检测,其小巧灵活,便于集成,相对面LED光源可以实现更高的功率密度。


光刻曝光



可以完美替代汞灯,在光刻领域LED可以提供更加精准的波长、稳定的功率以及毫秒级的启动速度。



空间耦合LED&LD照明模组




紫外LED365 / 385nm &激光405 / 435nm


功率高,照明系统输出LED光功率6W~20.5W


出光稳定性高,功率波动<1%


LED光源可更换,操作简便


具有超温、过流保护功能


整机满足EMC CLASS A标准


使用寿命>10000小时


矩形光斑输出,照度均匀性>97%


应用案例

激光直写(LDI)-阻焊曝光


在PCB阻焊油墨的曝光中,由于油墨类型多,需要多种波长兼顾固化性能及表观,以及高功率缩短曝光时间,提升产能,因此用LED+LD结合,利用LED的波长丰富性以及LD的高功率特性,解决使用中的痛点。



无论是追求高功率输出的光刻曝光场景,还是需要均匀光斑的机器视觉检测,亦或是对稳定性、安全性有严格要求的增材制造环节,本产品系列都能凭借结构紧凑、控制灵活、可靠性强的优势轻松适配。


在精密紫外应用的赛道上,选择一款靠谱的光源,不仅能解决当下的难题,更能为未来的发展预留空间。相信这款兼具性能与性价比的产品,会成为生产与科研路上的 “得力伙伴”,期待与更多客户共同探索紫外应用的更多可能!